オゾン

物性値 分子式 O3
分子量 48.0

酸化還元電位 2.07V (次亜塩素酸の場合 1.65V) : 非常に酸化力に富む
濃度表記法 ガス
 ppm:通常体積比でガス中にオゾンが100万分の1存在すること。
 g/m3:ガス1m3中に含まれるオゾンの質量
 換算式:1g/m3=500ppm(常温常圧)
      :1g/Nm3=467ppm(標準状態)
 一般的には、オゾン濃度が高い場合やオゾンを大量に使用する場合はg/m3、低濃度または環境でのオゾン濃度の表記にはppmが用いられる。このホームページでも両方用いている。

オゾン水
 ppm又はmg/L:水1リットル中の含有オゾン重量(両者同じ)
オゾン生成方法 放電法
 無声放電法(多くのオゾン発生器で用いられている)
 
SPCP法(沿面放電法):小型、コンパクト
紫外線ランプ
 紫外線により酸素分子を解離してオゾンを生成する。
電気分解法
 電極間に固体電解質膜を挟んで、水を電気分解すると陽極でオゾンが生成する。
オゾンの安全性
(許容濃度)
気中の濃度
・労働衛生上の許容濃度
  日本 日本産業衛生学会 0.1ppm
  米国 ACGIH         0.1ppm
・室内使用機器の暫定設計基準
  日本 空気清浄協会 最高 0.1ppm 平均 0.05ppm
・環境基準
  大気汚染防止法 オキシダント濃度として 総和で 0.12ppm (1時間値)
  環境基本計画   光化学オキシダント         0.06ppm (1時間値)
水中の濃度
・プール用水
  ドイツ DIN19643  0.05mg/L  (処理後の流入水)
応用分野 空気清浄
・脱臭
・殺菌
・脱硝
医療・食品
・殺菌
・制菌
・鮮度保持
水処理
・上水
・下水
・環境用水
・プール/浴場
・魚養殖/水族館
・最終処分地浸出水

半導体
・酸化膜CVD
・有機物除去(アッシング)
・表面改質
紙パルプ
・パルプ漂白
その他
・トイレ洗浄
・給水・給湯管洗浄


SPCPオゾン発生装置
 技術資料   製品案内はこちらから
特徴
1.SPCP素子は電極とセラミックが一体形成されており装置がシンプル
2.環境空気から純酸素ガス(99.9999%)まで原料ガスとして用い、オゾンを安定に効率よく発生
3.冷却効率が良いため(熱伝導率の良い高純度アルミナセラミックを通して冷却)高周波運転できる
4.オゾン発生管・板(SPCP素子)の冷却はヒートポンプ直接冷却(蒸発器)、水冷、空冷を選択できる
5.装置が小型コンパクト
6.メンテナンスも容易

オゾン濃度 0.05ppmから350g/Nm3(16.3 vol%)まで用途に合わせて発生できます。
オゾン発生量 1mg/hから1kg/hまで用途に合わせて発生できます。
原料ガス 半導体向け:酸素99.99%以上
一般工業用:酸素濃度99.7%
大量のオゾン生成:酸素発生機:酸素濃度95%程度
中濃度向き:乾燥空気(露点<-50℃が望ましい)
少量のオゾン発生:環境空気(湿度の影響が大きい)
冷却方法 高濃度オゾンが必要な場合はヒートポンプ直接冷却または水冷が望ましい
小型は空冷でも高濃度オゾンを発生できる


オゾン水生成機 
製品案内はこちらから
特徴
1.小型コンパクトなSPCPオゾン発生装置を用いた、小型(可搬式も可能)のオゾン水生成機
2.環境空気から生成したオゾンで低濃度(~0.2ppm)ながらオゾン水の連続生成(流水式)が可能
3.酸素から生成したオゾンで中濃度オゾン水(~5ppm)のオゾン水の連続生成(流水式)も可能
4.純水を用いた高濃度オゾン水(~30ppm)も生成可能
5.処理する水に最適のSPCPオゾン発生装置とオゾンミキシング方法を提供可能

オゾン水濃度 0.05ppmから50ppmまで用途に合わせて生成できます。
オゾン水生成量 20L/minまでの製品が多いですが、ご希望により設計製作可能です。
オゾンミキシング方法 インジェクター方式
 ベンチャリー流水部の矮小部からオゾンガスを吸引させます
バブリング方式
 散気管からオゾンガスを水中にバブリングさせます
ミキシングポンプ方式
 渦流ポンプの給水口からオゾンガスも吸引させます
マイクロバブル方式
 マイクロバブル発生機にオゾンガスを接続します
溶解膜方式
 テフロン製溶解膜にオゾンガスを供給し、溶解膜を介してオゾンを水に溶解させます
オゾン水の応用例 オゾン水による環境改善 

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